CVD e Teoria Dello Strato Limite

Ciao a tutti, mi trovo a preparare un esame di Chimica e mi sono
trovato di fronte ad una trattazione teorica della cinetica riguardante
la tecnica CVD (Chemical Vapor Deposition) che francamente ho trovato
carente nei contenuti.

Il problema è il seguente, cosa asserisce la teoria dello strato
limite? Vengono introdotti i concetti di profilo di concentrazione,
velocità e temperatura relativamente a tale teoria al fine di
discutere quelli che potrebbero essere i criteri generali per
ottimizzare tale processo.
Siete in grado di darmi una breve ma sostanziosa trattazione di tale
teoria?
Onestamente mi sa quasi da discussione da fisici, ma immagino che la
cosa a noi chimici possa tornarci utile, perchè secondo voi?
Quali altri parametri secondo voi vanno tenutti sotto controllo per
avere una buona deposizione?

Grazie in anticipo.

Il 10/12/2006, Teo ha scritto:


Cosa manca precisamente?


In linea di massima è così.


Tutta la teoria è una cosa abbastanza complessa, diciamo che con lo
strato limite si dice che la concentrazione nel bulk è all'incirca
costante, mentre solo nei pressi della superficie in cui si ha
deposizione (o condensa di liquidi, o reazione solido gas) si ha
variazione del profilo di Concentrazione o Temperatura.
Se cerchi su un qualsiasi libro di impianti chimici (o chimica
industriale) dovresti trovare qualche cosa (anche se di solito è
riferito a fenomeni di condensazione, ma la sostanza non cambia molto).


Perchè permette di sapere come reagisce un gas su un solido


Temperatura del pezzo, tanto per iniziare, eventuali cariche elettriche
presenti, poi dipende da molti altri fattori, in funzione del dipo di
CVD che si effettua.


Ciao
Mavimo

--
[Only registered users see links. ]