Solventi per ossido di stagno

Salve a tutti, avrei bisogno di un aiuto.
Devo rimuovere dell'ossido di stagno depositato su un substrato di
vetro.
Ho provato con HCl al 37%, con una soluzione satura di NaOH e con
cloruro ferrico (50g su 100ml di acqua). Nessuna di queste soluzioni è
riuscita ad attaccare il film.
Potreste darmi qualche idea per sciogliere l'ossido di stagno...
Grazie a tutti.
Ciao

[Only registered users see links. ] ha scritto:

SnCl2 in effetti è poco solubile, ma strano che insistendo non
si sciolga, magari come complesso .... Acido nitrico non ne hai ?


anche qui non so che dire. L'ossido di stagno IV ha
caratteristiche acide maggiori dell'ossido di stagno II. Tu non
sai con cos'hai a che fare dei due ?


di questo attacco invece mi sfugge la logica, cosa dovrebbe fare
un ossidante ad un ossido che, mal che vada, passa a biossido
pure esso insolubile ?

Se puoi prova l'acido nitrico, o al limite alla soda caustica
satura, aggiungi anche candeggina.



Sei strasicuro che sia proprio ossido di stagno ?
Soviet

<[Only registered users see links. ]> ha scritto nel messaggio
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Credo tu stia tentando di rimuovere lo strato conduttivo di un vetro LCD o
simile. Non conosco la tecnica di produzione di detto vetro ma immagino
subisca una sorta di ricottura affinché lo stangno tenda a migrare ed
incorporarsi nel reticolo del vetro.
Forse una soluzione diluita e calda (30-40°C) di acido fluoridrico potrebbe
aiutare ma purtroppo anche la superficie del vetro verrà intaccata e in
maniera molto irregolare irregolare.

Soviet_Mario ha scritto:

Ho provato anche l'acido nitrico ma niente.
No purtroppo la ditta produttrice non specifica.
Questo metodo mi è stato suggerito da gente che lo usa per rimuovere
ossido di indio e stagno (ITO), non posso fidarmi al 100%
proverò domani
Si è ossido di stagno drogato con fluoro, ma credo che la percentuale
di fluoro sia minima
Secondo te sarebbe pericoloso ed utile utilizzare una cella
elettrochimica in una soluzione di acido cloridrico ed acqua 1 a 5, per
far avvenire una corrosione anodica?
Ciao
Grazie ancora

Giovanni Rocco ha scritto:


Si è uno strato conduttivo trasparente, dovrei rimuoverne una piccola
parte, ma vorrei avere se possibile un attacco selettivo dell'ossido.
Per quanto riguarda la produzione, in genere questi materiali sono
prodotti per evaporazione termica, non so se poi subiscono anche un
trattamento termico tale da far diffondere gli atomi nel vetro.
Comunque se riuscissi a rimuovere l'ossido superficiale non mi
creerebbero problemi le impurità nel vetro.
Ciao
Grazie

[Only registered users see links. ] ha scritto:
CUT


evaporazione termica ? Sarebbe il CVD (chemical vapour deposition) ?

Cmq se, come ti hanno risposto, è vetrificato, potresti tentare
di smerigliare leggermente con abrasivi in grana fine. Un
abrasivo modesto (come fosfato di calcio o persino calcare, o
ossido ferrico), dovrebbe rimuovere la pellicola senza intaccare
troppo il vetro sottostante, anzi forse è persino troppo soft.
Se lo usi a mano, con abrasioni lente, puoi vedere cosa succede
con disco da granito per smerigliatrice, dovrebbe rigarlo in
modo controllato, poi magari completi con reattivi chimici.
Se sono pezzi preziosi non so, valuta tu se tentare o meno
ciao
Soviet

Soviet_Mario ha scritto:


L'evaporazione termica non rientra nella categoria delle cvd ma in
quella delle PVD (physical vapour deposition).
Si per ora sto utilizzando metodi meccanici ma la superficie mi sta
creando qualche problemino e volevo provare con una tecnica più fine
per diminuire la rugosità.
Ciao

<[Only registered users see links. ]> ha scritto nel messaggio
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Se utilizzi la tecnica della lucidatura meccanica, facendo una ricerca
presso ottici puoi farti procurare della polvere di diamante a diverse
graniture che molti "hobbisti astronomi" utilizzano per costruirsi in casa
lo specchio per i loro telescopi (costo al dettaglio ~5Euro/Gr).
Oppure ditta di installazione reti dati, per la connettorizzazione delle
fibre ottiche utilizzano fogli di acetato ricoperti di allumina a graniture
diverse (...25-15-10-5-1um, 0,05um diamante).
Forse, per aver risposte più precise dovresti dare qualche informazione in
più.( Cosa stai combinando?)
Saluti
R.G.

Giovanni Rocco ha scritto:


Niente di mostruoso: cella fotovoltaica di tipo organico.
Il problema è che devo rimuovere una parte dell'ossido di stagno (che
è un film trasparente e conduttivo), poi deposito il materiale
organico e successivamente un film di alluminio tramite evaporazione
termica. Purtroppo la rimozione meccanica fatta con paste e carta di
diversi spessori, mi produce una zona molto rugosa dove il film di
alluminio ha qualche problema...
Secondo voi devo abbandonare l'attacco chimico, escludendo l'acido
fluoridrico che mi attaccherebbe anche il vetro?
Grazie ancora.
Ciao

<[Only registered users see links. ]> ha scritto nel messaggio
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Mi sfugge qualcosa...
Perché stai usando un supporto con strato conduttivo per poi rimuoverlo?
Se è parte del processo, maschera la zona prima del trattamento con stagno
(resine pelabili se le condizioni lo permettono o...; sto cercando un mio
vecchi libro di semimicroanalisi per l'alternativa)
Alluminio?... Hai considerato l'interfaccia alluminio e composto organico
che sia compatibile e non si produca passivazione (allumina, terribilmente
isolante). Se io dovessi fare esperimenti/prototipi userei oro (non si sa
mai...)
Chi produce celle al silicio solitamente usa paste su base argento per
l'elevata conducibilità dopo cottura.
Comunque una delle persone più accreditate per suggerirti ottime soluzioni
è sicuramente "Soviet M." che la chimica sicuramente la studia ancora.
Ciao